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​PECVD中RF 和VHF哪个更好

发布时间:2020-12-07 点击次数:810
气体分子在外加射频场下被电离成对应的等离子体,按照射频施加频率的不同,可分为 RF-PECVD 和 VHF-PECVD 两种,其中 RF-PECVD 的频率一般为 13.56MHz,VHF-PECVD 的频率一般在 30-300MHz 之间。由于射频频率与电 子和气体分子的碰撞几率成正相关关系,一定范围内升高射频频率,反应气体的分解速率将加快,短时间内产生大 量反应活性基团,可提升薄膜的沉积速率;另一方面,高频场下腔室内的电子浓度增加、反应温度和直流自偏压降 低,能够减小等离子体的离化程度以及轰击效应,且有利于生成更多的反应前驱物,保证了薄膜优质生长,薄膜缺更少、致密性更佳、电导率更高。


但是高频场极易导致更多非均匀源的出现,从而引发驻波、奇点等效应,膜面容易脱落或出现条纹,使得薄膜的均 匀性变差;此外,由于甚高频下薄膜的沉积速率会大大增加,不利于沉积过程中对薄膜厚度的精准控制,同时薄膜 厚度的增加也会导致透光率的降低。

PECVD用石墨舟

RF 镀膜均匀性好,VHF 高沉积速率提升产能


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